STARPOWER-蒸发离化源(弧靶)
蒸发离化源又名真空等离子体加速器或圆形阴极弧源、电弧源、小弧源。本蒸发源具有镀料蒸发率高、工作可靠、寿命长,能通过使用不同的镀料产生多种镀料蒸汽等特点。
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阴极弧源
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STARPOWER-蒸发离化源(弧靶)
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蒸发离化源又名真空等离子体加速器或圆形阴极弧源、电弧源、小弧源。本蒸发源具有镀料蒸发率高、工作可靠、寿命长,能通过使用不同的镀料产生多种镀料蒸汽等特点。采用纯铜阴极座,导电和冷却效果好;一体成型的进口聚四氟乙烯材料绝缘,有效防止跑弧,降低烧蚀法兰等情况的出现;304不锈钢法兰,坚固耐用,电磁线圈引弧和气缸引弧、直冷间冷、水冷单进单出、双进双出、法兰水冷等等均可自由定制。根据不同机型,配置不同大小的钦铁硼永磁铁。结构合理、用料考究、安装方便、电弧均匀、故障率低,是阴极电弧离子镀的首选离化源。
阴极电弧离子镀膜技术的金属离化率高,容易反应沉积TiN等化合物膜
层,在沉积装饰涂层和工模具硬质涂层方面发挥了重要作用。工作过程是在靶(阴极)的表面形成能量非常集中并作无规则运动的电弧阴极“斑”,使镀料(阴极)蒸发离化。生成高密度靶材离子,当与反应气体反应后,在负偏压作用下便会加速射向工件,实现反应离子镀工艺。
同时可以增设电磁场加速弧斑旋转速度,减少金属熔池、细化电弧,使膜
层致密。电磁场可以增设单线圈同轴电磁场和双线圈电磁场。也可以采用电磁偏转磁过滤系统,分为一次90°偏转和二次90°偏转以及扫描电弧等方式,以获得更纯净的离子流沉积,得到更高纯度的薄膜。
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STARPOWER-磁控溅射靶
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